1. SP-3880AA在自动补偿石墨炉电阻变化技术、横向可变交流磁场塞曼背景校正技术、自吸背景校正技术等关键技术方面具有创新性，已申请7项发明专利（其中5项已获初审合格通知书），3项实用新型专利（其中“一种有利于精确夹紧的石墨炉头” 专利号：200820155398.6 证书号 1270983）。 
2. 该产品为石墨炉火焰原子吸收一体化设计，避免了石墨炉与火焰两种模式的机械切换，操作方便，系统具有交直流塞曼扣背景功能，能较好检测高背景样品的小信号，也能直接检测高温元素，具有较广泛的应用前景。 
3. 该产品实现了全反射双原子化器串联型结构技术、开关型石墨炉直流加热电源技术、交直流塞曼背景校正技术均为国内首创。 
4. SP-3880AA不仅实现了横向可变交流磁场、直流磁场塞曼背景校正的一体化，并且实现了这两种磁场塞曼背景校正的同时进行，使得系统不仅既有恒定磁场的优点又有交变磁场的优点，同时在实际应用中方便的进行方法优化，且为塞曼背景校正的深入研究提供了条件，该技术为国际首创。