专利的等离子体聚焦技术

从废水到有机样品直接进样分析，PlasmaQuant MS在不断提升分析性能的前提下将ICP-MS的分析成本降至业内最低。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS等离子体异乎寻常的强劲稳健，轻松应对各种复杂基体。并获得了极低水平的氧化物(<2% CeO+/Ce+)和双电荷(<2% Ba++/Ba+)；等离子体射频功率实现业内最宽范围内连续可调（300-1600 W），可根据实际应用需求选择最优化等离子条件。专利的等离子体聚焦技术使PlasmaQuant MS在正常操作条件下，等离子气消耗量小于9L/min。

• 等离子体超乎寻常的强劲稳健

• 最低的分析成本

• 接口锥后配备不少于2个独立工作的提取透镜

• 离子源：射频频率≤27.12 MHz，功率范围300~1600W，射频线圈水冷设计

专利的碰撞反应池iCRC

集成式碰撞反应池iCRC—独特的干扰消除系统使用简单的气体—氦气和氢气，即可高效、简洁、快速的消除ICP-MS 分析中遇到的质谱干扰。可以根据样品基体的不同选择使用两种气体以提高分析数据的准确性。专利的BOOST技术可在使用碰撞反应气的模式下保证待测分析元素的灵敏度和检出限不受影响。

• 高效去除质谱干扰确保分析结果的准确性

• 不同模式下快速切换，确保分析效率

• 针对复杂基体的样品具有出色的长期稳定性

高通量快速分析的保证– ReflexION

PlasmaQuant MS的高灵敏度不仅获得了业内最佳检出限，并在保证分析结果的精密度和重复性的前提下显著缩短分析时间。PlasmaQuant MS高灵敏度的获得主要得益于专利的ReflexION 离子光学系统，实现了对离子束真正意义上的90°反射偏转和3D聚焦。ReflexION 离子光学系统通过抛物面静电场对离子束进行90°反射偏转的同时，不同大小和动能的待分析离子被聚焦在四极杆质量分析器入口。确保在全质量数范围内待分析离子最高的灵敏度及信号值。光子、中性粒子及颗粒穿过抛物面静电场后被真空系统移出质谱仪。

• 离子束被反射并在四极杆质量分析器入口处聚焦获得业内最高分析灵敏度

• 光子、中性粒子及颗粒未进入四级杆，获得极低的背景噪声

• 离子束全三维控制，优化简单

高效灵活的高解析四极杆 – HD Quadrupole

PlasmaQuant MS可准确定量所有已知稳定存在的同位素；真正意义上的高达3 MHz的高解析驱动频率，使得PlasmaQuant MS 获得了理想的质谱分辨能力和业内最佳丰度灵敏度（2.3x10-8 @ m-1 238U）；业内领先的质谱扫描速度5115 amu/s及50μs的最小驻留时间。为同位素比值分析、激光烧蚀联用技术及单纳米颗粒物分析提供了最优化的硬件保证。

• 得益于最佳丰度灵敏度，PlasmaQuant MS获得业内领先的同为素比值分析能力

• 超快质谱扫描速度，PlasmaQuant MS获得直径小于10nm的纳米颗粒物分析能力

• 低于0.5cps的背景噪声，PlasmaQuant MS获得业内最佳检出限

• 四极杆驱动频率：3.0 MHz

灵活、精确的全数字检测器– ADD11

全数字脉冲检测器在脉冲计数模式下即可达到11个数量级(0.1–1010cps)的动态线性范围。一次进样从痕量超痕量一直到主量的多元素分析均可获得快速准确的定量分析结果，并且全数字脉冲检测器在业内具有最长使用寿命。

• 11个数量级的动态线性范围，实现了真正意义上的宽范围多元素分析

• 无需频繁的交叉校正，无需繁琐准备，简单易用

• 长寿命检测器：分析NIST 1643e标样中23种元素，按照每天300个样品，每个月分析20天计算，寿命应不小于10年

等离子体改性附件– Nitrox

全面提升石油化工品等有机样品直接进样分析中Se、As等元素的准确定量分析性能。Nitrox是一款全自动化、MFC控制的等离子体在线加氧加氮装置。氮气通常被用来改善等离子体中待分析离子的电离度、抑制多原子干扰离子的产生和基体效应，进而改善ICP-MS分析的整体性能。在线加氧可应用在有机样品直接进样分析领域，可显著缩短样品前处理的时间。

高TDS样品的高效率分析–Aerosol dilution

高TDS样品分析时，Aerosol dilution气溶胶稀释功能可避免样品复杂的稀释处理，直接分析例如海水等复杂样品。